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展品型号 | ARP9200 |
展品类别 | 精密半导体划切设备 |
展品特点 | 1. 无膜作业,完全省掉传统贴膜的工艺与成本; 2. 全自动上下料,极少人力; 3. 双平台循环工作,双切割轴同时切割,有着极高的设备利用率和切割效率; 4. 全自动Vision检测 |
采用标准 | ISO9001:2015;企业标准:RD-BZ-2021-0001-1 |
产品结构 | 上料:精准运输片条到切割平台 切割:双切割主轴、双切割平台及单独视觉系统进行循环高效切割作业 分选:视觉系统扫描颗粒指标判断良品和不良品,分选机构进行分选和装盘/桶 |
典型应用产品 | 1. 适用产品类型:半导体封装类产品的切割、视觉检测及装盘,如DFN、QFN、BGA等封装形式的产品 2. 适用产品尺寸:Strip:300×100(特殊尺寸可定制)、Unit:3×3-22×22(特殊尺寸可定制) |
展品型号 | AR9000 |
展品类别 | 精密半导体划切设备 |
展品特点 | 1. 全自动上下料、定位、划切、清洗一体机型,解放劳动力; 2. 双轴对装加工,轴间距优化缩减,加工效率较单轴大幅提升; 3. 标配非接触式测高(NCS)和刀片破损检测(BBD)功能,使划切安全可靠; 4. 最大加工尺寸300×300mm,可定制方形器件加工,适应性更广。 |
采用标准 | ISO9001:2015;企业标准:RD-BZ-2021-0001-1 |
产品结构 | 上下料:传输定位,精准运输加工物; 对准:具备高速图像识别功能,多种对准模式,快速寻找加工物的切割道; 切割:双切割主轴高效切割作业; 清洗:自动清洗干燥功能。 |
典型应用产品 | 1. 适用产品类型:IC、PCB、陶瓷、玻璃、铌酸锂、氧化铝、石英等材料的精密切割;广泛用于IC集成电路、LED封装、QFN、DFN、BGA、光学光电、通讯等行业。 2. 适用产品尺寸:产品尺寸:6-12寸(特殊尺寸可定制)。 |
展品型号 | AR9000RR |
展品类别 | 精密半导体划切设备 |
展品特点 | 1. 全自动上下料、定位、划切、清洗、解胶、取环一体机型,解放劳动力; 2. 多工位,多轴同步协调加工,加工效率大幅提升; 3. 标配非接触式测高(NCS)和刀片破损检测(BBD)功能,使划切安全可靠; 4. 依据客户需求,定制化工作台结构,适应不同情况下TAIKO工艺下晶圆。 |
采用标准 | ISO9001:2015;企业标准:RD-BZ-2021-0001-1 |
产品结构 | 上下料:传输定位,精准运输加工物; 对准:具备高速图像识别功能,特殊对准形式; 切割:多轴联动环切作业; 清洗:自动清洗干燥功能。 解胶:自动定位边缘解胶功能; 取环:自动去除晶圆外环 |
典型应用产品 | 1. 适用产品类型:TAIKO工艺下晶圆的TAIKO环切割去除。 2. 适用产品尺寸:产品尺寸:12寸(特殊尺寸可定制)。 |
展品型号 | AG6800 |
展品类别 | 精密半导体磨削设备 |
展品特点 | 1. In-Feed磨削; 2. 双主轴三工位,工作效率高; 3. 全自动上下料、清洗、干燥,实现全自动运行模式,大大降低OP工作量; 4. 便捷的人机交互界面; 5. 真空管路去水功能; 6. 高精度接触式晶圆侧厚功能; 7. 兼容4/5/6/8寸晶圆加工 |
采用标准 | ISO9001:2015;企业标准:RD-BZ-2021-0001-1 |
产品结构 | 1. 晶圆搬运对中平台:精准运输晶圆片到承片台,以及将加工清洗后的晶圆送回料盒; 2. 双主轴三工位平台:通过承片台与分度台的自转/公转结构,将晶圆片分别传送至粗/精磨轴处,同时高效统筹加工; 3. 清洗:将加工好的晶圆片,通过水气二流体清洗,并去除离子; |
典型应用产品 | 1. 适用产品类型: 主要用于半导体Si晶圆片的全自动减薄加工,可将晶圆片从500-800um厚减薄至200um以下。 2. 适用产品尺寸:兼容4/5/6/8寸晶圆产品的减薄加工 |